中國開始國產 DUV 微影設備量產 美國加強審查 ASML EUV 設備出貨

中國首批國產 DUV 微影掃描機

根據 2026-08-04 引述的報導，一家中國公司「上海宇量升科技」已開始製造自有 DUV 浸潤式光學微影掃描機。在此之前，中國在這類設備上並無可替代西方的國產方案；該市場長期由荷蘭廠商 ASML 領頭。這些設備使用波長 193 nm 的氟化氬準分子雷射，並藉由讓光線在液態介質中折射來提升解析度。此進展作為自給自足的重要里程碑意義重大，但並非技術突破，因為 DUV 浸潤式技術商用化已有數十年，ASML 也生產同類設備。

產量與可能的客戶

初期產量偏低：2026 年預計僅生產 5 臺，並規劃自 2027 年起逐步擴產至每年約 20 臺。相比之下，據報 ASML 在 2026 年交付了 131 臺同類設備至市場。上海宇量升預期買家將包括中國晶圓代工廠中芯國際與華虹，以及記憶體製造商長鑫存儲（CXMT）——這些公司在取得西方先進微影設備方面都受到限制。

零件供應與 EUV 缺口

這些設備尚未完全使用中國零件製造；部分零件（可能包含關鍵元件）仍從日本進口。更根本的是，這條新的中國產線並未涵蓋 EUV——這項波長 13.5 nm 的極紫外光技術由 ASML 獨家供應，是 5 nm 及以下邏輯節點與最新一代 DRAM 製程所必需。EUV 能力需要從汽化錫滴產生電漿，這一製程遠超出目前已開始量產的 DUV 設備技術層級；現有報導中並未透露中國 EUV 系統的時程。

美國對 EUV 輸往中國施壓

此外，據 2026-08-04 報導，美國商務部長 Howard Lutnick 在與 ASML 高層的會談中，對 EUV 相關零件與運輸設備可能已運往中國一事表示關切。ASML 及其執行長 Christophe Fouquet 皆否認有任何 EUV 設備目前或曾經在中國境內，理由是公司內部設有防火牆，加上建造此類系統在技術與財務上的難度。國會一項兩黨共同提出的法案也擬禁止 ASML 將 DUV 設備銷往中國，在既有 EUV 限制之外再添一層出口管制壓力。

相互矛盾的證據與未解的疑問

這兩條報導圍繞著中國如何取得先進微影技術這個核心問題，卻指向相反的方向。一種說法將上海御良盛的 DUV 掃描機視為中國國內自給率提升的證據；另一種說法則將盧特尼克的警告解讀為 EUV 技術可能已流入中國的潛在管道，與官方否認形成對比。ASML 持續將舊世代 DUV 設備銷往中國的商業策略，被描述為刻意維持世代差距的手段，而非制度漏洞，但美國官員仍在嚴審這些出貨。雙方歧見使得 EUV 技術究竟是否已實際進入中國，以及 DUV 銷售是否將面臨新一輪管制，至今仍懸而未決。

下一個可驗證的里程碑

近期可關注的查核點包括：上海御良盛預計於 2027 年將產能提升至每年約 20 臺 DUV 機臺、旨在禁止 ASML 對中國出口 DUV 設備的美國國會法案進度，以及商務部對疑似 EUV 相關技術移轉案調查的後續結果。