Trane Technologies 與 Eaton 推出基於 NVIDIA DSX 的 AI 資料中心參考設計

這項合作帶來了什麼

Trane Technologies 與 Eaton共同推出了一套以 NVIDIA DSX AI Factory Reference Design 為基礎的 AI 資料中心參考設計，將熱管理與電力系統架構整合在單一套件中。該設計同時納入 Trane Continuum Rubin DSX 與 Eaton Beam Rubin DSX 平臺，由 Eaton 為 Trane 平臺提供配電解決方案，兩家公司並使其系統與 NVIDIA DSX 對齊。

效率與成本宣稱

兩家公司預估，相較於傳統的低壓設計，新做法可將能源效率提升最高 15%、安裝成本降低最高 30%，並將銅使用量減少最高 80%。該設計設計上可與 NVIDIA Omniverse DSX Blueprint for AI data centres 互通，目標是為營運商提供更一致的方式，以規劃並交付 AI 導向環境所需的電力、熱與數位控制基礎設施。

產業背景

Trane 與 Eaton 將此舉定位為回應資料中心營運商日益沉重的壓力——在控管電力使用、建置成本與部署時程的同時，支援更大量的 AI 工作負載。兩家公司引用一項預測指出，全球資料中心容量到 2030 年可能幾近成長三倍，其中約 70% 由 AI 驅動，並將這種協作的中壓做法定位為擴展高功率密度 AI 設施基礎設施時更具資源效率的路徑。

系統如何協作

此合作的核心在於以統一的系統架構取代電力與冷卻各自獨立的工程路線。在此安排下，配電與冷卻系統預期可相互交換運作指標，並對資料中心內部變動的需求做出更動態的回應；此外，該設計在結構上也預作規劃，以因應液冷技術與直流架構日趨普及的發展。

高階主管與合作夥伴談話

Trane Technologies 資深副總裁暨技術與永續長 Mauro J. Atalla 表示，這項合作提供了一套協調一致的設計，協助客戶加速部署、提升效率並擴展規模。Eaton 電氣事業部資深副總裁暨技術長 Michael Regelski 表示，兩家公司正在將參考設計推進為可供部署團隊重複使用的統一系統。NVIDIA AI 基礎設施副總裁 Vladimir Troy 表示，與 NVIDIA Omniverse DSX Blueprint 對齊，有助於客戶降低複雜度，並加速部署下一代 AI 資料中心。投資人接下來將關注 Trane Technologies 預定於 2026 年 10 月 29 日發布的下一份財務更新，以取得 AI 資料中心佈局轉化為訂單與營收的直接佐證。

仍不明朗之處

效率、成本與銅使用量等數據為公司自行預估，原始資料中尚未經過獨立驗證。目前仍不明確哪些營運商會採用此參考設計、典型部署時程為何，以及實務上中壓方案與現有低壓 AI 機房建置相比的表現如何。