Trane Technologies 與 Eaton 推出聯合 AI 資料中心參考設計

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Trane Technologies 與 Eaton 推出了一套以 NVIDIA DSX AI Factory Reference Design 為基礎的 AI 資料中心聯合參考設計,將熱管理與電力系統架構整合於單一解決方案中。此設計已納入 Trane Continuum Rubin DSX 與 Eaton Beam Rubin DSX 平臺,其中 Eaton 為 Trane 平臺提供電力分配,兩家公司的系統皆與 NVIDIA DSX 對齊。

效率與成本效益宣稱

兩家公司表示,相較於傳統低壓設計,此整合方案可提升能源效率達 15%、降低安裝成本達 30%,並減少銅材用量達 80%。Eaton 表示,這些數據為預估值,實際情況可能因安裝環境而異。

邁向中壓系統

這項合作聚焦於推進適用於高功率密度 AI 場域的中壓電力系統，取代過去較為分散的規劃流程。雙方表示，藉由在規劃初期即整合電力與冷卻系統，營運商可縮短開發週期，並降低以 AI 為核心的設施在部署上的複雜度。

與 NVIDIA 工具鏈對齊

此參考設計可與 NVIDIA Omniverse DSX Blueprint（AI 資料中心藍圖）搭配運作，提供一套協調一致的方式來規劃與交付電力、熱處理及數位控制基礎設施。該架構可隨液冷技術與直流系統的日益普及而調整，並致力於讓配電系統與冷卻系統能互相交換運作指標，更靈活地回應需求的變化。

公司高層所述目標

Trane 將此設計定位為提供客戶從電網到晶片一貫整合作法，協助加速部署與擴展。Eaton 則將此合作定位為將參考設計從規格文件推進到可重複部署的實際系統，將中壓電力系統與白空間熱管理整合進 Trane 的熱管理架構。NVIDIA 將此合作描述為推動 AI 運算環境基礎設施規劃標準化整體努力的一部分。