中國生產里程碑
本週稍早發布的報導指出，由國家支持的製造商上海艾世納電子科技集團已開始量產中國首部自製浸潤式深紫外光（DUV）微影機。7 月 27 日與 28 日的報導顯示，今年目標約 5 臺，2027 年再增加約 20 臺，產品將交由中國主要晶片製造商，包括中芯國際（SMIC）、華虹半導體，以及長鑫存儲（CXMT）。
艾世納成立於 2023 年 8 月，註冊資本約 70 億人民幣（約 10 億美元），背後支持者為上海電氣控股及上海國際信託的子公司。該公司吸納了來自上海宇量盛的工程團隊，後者去年開始測試 DUV 原型機，並整合了上海微電子裝備（SMEE）的人員。宇量盛成立於 2022 年，由 SiCarrier 與國家支持的創客威（上海）科技共同持有，在 2025 年的重組中取得 SMEE 的浸潤式 DUV 技術及工程師，而 SMEE 則保留其極紫外光（EUV）微影計畫。The Information 因議題敏感最初未揭露製造商身分；路透社於 7 月 28 日公佈其為艾世納。
與 ASML 的技術差距
中國正在開發的系統，可與 SMEE 的 SSA800 相比，據分析師描述大致等同於 ASML 的 TWINSCAN NXT:1950i，這是該荷蘭公司在 2008 年推出的、用於 28 奈米晶片生產的工具。地區媒體引述的中國評論人士表示，該平臺仍落後 ASML 目前的 DUV 產品約四個世代，性能約等同於大約 15 年前的設備。SSA800 約 70% 的零組件在中國製造，但該系統仍需進口關鍵零件，包括 193 奈米準分子雷射反射鏡、Zeiss 鏡片、真空腔體、同步控制軟體，以及氟化氬（ArF）浸潤式光源，其中部分來自次級市場。中國研究人員另外宣稱在自製 EUV 微影設備方面取得進展，這是一項更具意義的轉變，但在可預見的未來，ASML 仍將是商用 EUV 系統的唯一供應商。
市場反應與 ASML 展望
市場反應相當劇烈。在 7 月 28 日最初報導出爐後，ASML 股價一度下跌超過 8%，兩個交易日內共損失約 10% 的市值，超過 600 億歐元。其他西方設備供應商包括 Applied Materials、Lam Research 和 KLA 也同步下挫。中國佔 ASML 2025 年營收的 33%，不過 ASML 在最新報導之前，原本預期該比例在 2026 年將降至約 20%。ASML 預計 2026 年將出貨約 130 臺 DUV 設備，並在 2027 年與 2028 年各擴產 30%，達到每年約 220 臺，以反映來自 TSMC、Samsung 和 SK Hynix、受 AI 運算支出帶動的需求。分析師認為，規模差距使得 ASML 在短期內不太可能被取代；這波拋售反映的是對長期機率的重估，而非競爭已然成真的證據。
美國政策回應
這樣的時機讓華府陷入兩難。由參議員 Pete Ricketts、Andy Kim、Jim Risch 和 Chuck Schumer 於 2026 年 4 月提出的 MATCH 法案，將禁止向受關注國家的設施銷售關鍵半導體製造設備，包括浸潤式 DUV 微影設備。該法案特別點名由 SMIC、華虹半導體、華為、CXMT 和長江存儲（YMTC）運營的晶圓廠，要求對其出口、維修和技術支援實施更嚴格的限制。分析師指出，如果中國實現本土化生產，禁止進口 DUV 設備的效力將大打折扣：一項原本被視為關門的政策，可能只會減緩進展的腳步。
其餘不確定因素
仍有若干問題懸而未決。以 ASML 的標準來看，愛盛生的初期產量仍然很小，早期生產中的可靠性與良率表現，將決定中國晶片製造商是否願意大規模採用國產設備，尤其考量到合資格替代品的供應仍然短缺。儘管面臨美國制裁，SMIC 仍持續使用進口的 ASML NXT:1980i 系統，搭配多重曝光技術來生產華為所需的 7 奈米晶片。較長期的競爭威脅，取決於愛盛生及其供應鏈能否持續迭代、SSA800 計畫能否從小規模生產過渡到更廣泛的部署，以及中國研究人員能否在商用 EUV 生產上取得進展。投資人將在未來幾季密切關注首批交付給 SMIC、華虹半導體和 CXMT 的設備，以判斷其可靠性與良率的訊號。
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