中國朝 DUV 量產邁進的進展
據報導，中國即將進入深紫外光（DUV）微影機器的量產階段，這項先進晶片製造的關鍵技術長期由荷蘭公司 ASML 主導。根據 Noah Intelligence 引述並參考 The Information 與 Reuters 的報導，上海一家國有背景的公司已開始為國內市場製造浸潤式 DUV 微影設備，北京方面正試圖加速這項進展，以降低對外國半導體設備的依賴。
此發展正值整個晶片製造產業的高本益比再度受到檢視之際，投資人正評估人工智慧相關資本支出的激增能否轉化為相對應的回報。Anadolu 引述的一位亞洲市場分析師將中國的挑戰描述為西方半導體優勢首次面臨實質性的侵蝕，並指出中國取得的每一臺微影設備，過去一向被視為西方的損失。
初期產量規模與交付目標
根據 Noah Intelligence 引述的報導，首批國產浸潤式 DUV 系統預計將交付給中芯國際（SMIC）、華虹半導體與長鑫存儲（CXMT）。預估產量在 2026 年約為 5 臺，2027 年約為 20 臺，這個數字被描述為重要的象徵性進展，而非立即取代外國供應。
作為比較，ASML 去年售出約 131 臺 DUV 系統，凸顯中國初期產量相對於全球龍頭仍相當有限。報導中引述的分析師將早期交付定位為一項試驗性努力，真正的考驗在於能否將初期產品轉化為可靠、能持續進行高產量生產的設備。
分析師對短期影響的審慎看法
專家警告不要高估對 ASML 的立即威脅。DGA-Albright Stonebridge Group 合夥人兼科技政策負責人 Paul Triolo 對媒體表示，能夠製造浸潤式 DUV 機臺是一回事，但要讓它們全年全天候具備商業可行性則完全是另一回事。Jefferies 分析師 William Beavington 也呼籲保持謹慎，指出先前有關中國在該領域進展的說法並非總是屬實，且中國晶片製造商仍會盡可能繼續購買 ASML 設備，因為其性能與可靠度更為優異。
Anadolu 分析師 Sadi Kaymaz 表示，中國的 DUV 機臺所發出的光波長比更先進的系統更長，無法像頂尖機臺那樣在單一製程內於矽晶圓上蝕刻出精細圖樣。雖然 Kaymaz 指出，中國若要直接以國產 DUV 系統製造 2 奈米或 3 奈米晶片將極為困難，但他也提到，中國生產商先前曾以荷蘭 DUV 機臺透過多種配置達到 7 奈米的產出。
中國持續仰賴進口設備
中國對進口半導體設備的依賴顯然遠未打破。報導引述的美國銀行數據顯示，CXMT 所在的安徽省 3 月半導體設備進口量大幅成長，其中微影設備佔了大部分金額。數據顯示，即使中國企業持續擴大在地採購，國產設備仍是在補足、而非取代外國機臺。
Kaymaz 表示，製造單一機臺與在生產工廠中讓其持續運轉並不相同，良率仍是中國先進晶片面臨的重大挑戰。
出口管制與政策風險
分析師指出，ASML 更大的風險可能並非來自中國的直接競爭，而是源自美國擬議中的出口管制。旨在限制浸潤式 DUV 系統銷售與維修的立法，可能會因限制中國取得工程師、備品零件及技術支援，反而意外加速其學習曲線。儘管如此，報導中引述的專家仍認為，中國更可能建立的是一套分散式微影生態系，而非單一類似 ASML 的領導廠商；極紫外光系統對中國而言仍遙不可及，而浸潤式 DUV 將是其晶片製造商所能取得的最先進選項。
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