UBS：中國 EUV 微影技術落後 ASML 約十年，停滯於約 2004 年成熟度

UBS 認為中國的 EUV 進度落後 ASML 約十年

UBS 分析師告訴《Bloomberg》，中國本土的極紫外光（EUV）微影技術能力大約落後 ASML 十年，約略等同於這家荷蘭微影設備龍頭在 2004 年前後的水準——當時距 ASML 開始量產 EUV 系統還有約 15 年。該銀行指出，中國專利申請量激增，特別是在光源與雷射子系統領域，是最明顯的進展訊號，但仍結論認為未來十年內不太可能出現可運作的 EUV 設備。Tom's Hardware 在摘要該報告時指出，中國的半導體設備產業在最先進的微影節點上「仍明顯落後西方競爭對手」。

DUV 時程縮短，EUV 時程拉長

UBS 估計，中國可在兩到五年內達到浸潤式深紫外光（DUV）微影系統的大量製造，時程明顯短於其對 EUV 的展望。TrendForce 引述《Bloomberg》與 BigGo Finance 的報導，將此分歧描述為 DUV 先放量，EUV 在十年內仍遙不可及。同一份 TrendForce 摘要指出，ASML 的浸潤式 DUV 系統每臺售價約 9,000 萬美元，而其最先進的 EUV 系統每臺售價則超過 2 億美元。

中國國家級的投入與原型機進展

TrendForce 引述 2025 年底《Reuters》的調查報導指出，一臺於 2025 年初完成的中國 EUV 原型機正在進行測試，幾乎佔據一整座工廠廠房空間；消息人士表示，該機可產生 EUV 光，但尚未製造出可運作的晶片。TrendForce 將此計畫描述為一項機密的、由國家支持的計畫，並將其比擬為「曼哈頓計畫」。另一方面，TrendForce 引述 7 月《Reuters》的報導指出，上海艾斯恩那電子科技集團已開始量產自主研發的浸潤式 DUV 設備。

生產目標與 ASML 對中國市場的曝險

據 TrendForce 引述《The Information》報導，中國計畫在今年生產約五臺浸潤式 DUV 微影機，並在 2027 年生產約 20 臺。TrendForce 同時點出對 ASML 的商業影響：以出貨地點計算，中國在 2026 年第二季佔 ASML 淨系統銷售的 14%，較第一季的 19% 下滑；在現有出口管制下，EUV 系統不得出貨至中國。

仍不明朗之處

瑞銀的估計並未點名支撐該比較的中國研究團隊或原型設施，而 TrendForce 的報導則仰賴路透社引用的匿名消息來源，內容同時涵蓋 EUV 原型機的進展狀態與上海艾斯恩納的量產說法。在公開可得的證據中，中國 DUV 工具能否在客戶晶圓廠達成與 ASML 相當的良率與正常運行時間，以及北京是否將因應西方進一步的出口管制而加速 EUV 研發，仍是懸而未決的問題。